*二届国际背光技术(上海)展览会
The 2nd International Backlight(Shanghai)Expo
展览时间：2013年5月22日至24日 
展会地点：上海世博展览馆
主办单位：正亚展览机构
组织单位：上海富亚展览有限公司、广州正亚展览有限公司、闽台光电半导体产业协会
同期举办：*九届国际模切(上海)展览会
展会网址：  
[亚洲一背光源技术展]　
    在显示技术不断进步的今天，**的LED显示市场注定将背光行业发展成为一个庞大的产业。作为显示核心部件背光模组，它的发光效果、功耗和质量将决定产品的显像效果和寿命，在以手机、 PDA 、数字相机(DSC)、汽车（显示器）、液晶显示器 、液晶电视、家用电器、灯箱广告等行业背光技术获得广泛市场应用。
   "*二届国际背光技术(上海)展览会，简称「APFE2013」，是亚太地区设计背光产业的较大规模盛会，将于2013年5月22日-24日在上海世博展览馆举办，同期与“*九届国际模切展（**较大）”隆重开展，涉及展览总规模达18,000平方米，600多家展商预计将有来自国内外30,000人次的**观众到场参观!
　　2013年5月的上海，我们盛情邀请您以参展、参观、采购、交流合作等各种形式来到[APFE2013]！
[展会背景]
     目前中国一能*面向光电显示领域展示背光模组相关导光板、光学膜、光源、背光组装、检测技术的**展
　　上届【背光展】已于上海世博展览馆成功举办，在**范围为设计的背光源技术展，得到国内外背光领域**企业大力支持，如英国TEKNEK、韩国树研光学、德国亚德科、美国辐深、韩国FILEMAX、PROTEM、HI-LAND、SEKISUI、FUJI SHOKO、闽台郡威、岱棱、佑顺发、豪晶、旌阳、SYSCO、东芝、康得新、布雷德、菲斯特、民特英、德龙等上百家企业参展。展会共接待来自手机、电脑、家电、终端电子制造商、面板、背光模组、模切、材料供应商等将近20,000观众到场参观。
一、展览范围
◆背光源材料 
◆背光源制程设备
◆背光源化工产品
◆其他背光源相关设计、开发和制造相关科研机构。
二、展位规格及参展收费标准
1、国际标准展位：9m2（3m×3m）分设T 区（国际区），A 区（国内区）；
A 区：国内企业RMB 9800/展位 ：国内企业RMB 1000/m2/展期光地
T 区：国际展区USD 2000/展位 ：国际展区USD 200/m2/展期光地
[APFE2013]-联络机构：
正亚展览有限公司（背光展始创者）
电话：/6/7转218 
传真：/6/7转226  
联系人：陈先生    
E-mail:
网址：